二次元影像測量儀光柵尺作為重要的分光器件,其性能直接影響整個系統性能,為更好協助用戶選擇,在此做一簡要介紹。
1、二次元影像測量儀光柵尺分為刻劃光柵、復制光柵、全息光柵等;
2、刻劃光柵是用鉆石刻刀在涂有金屬的表面上機械刻劃而成;
3、復制光柵是用母光柵復制而成;
4、典型刻劃光柵和復制光柵的刻槽是三角形;
5、全息光柵是由激光干涉條紋光刻而成,全息通常包括正弦刻槽,刻劃光柵具有衍射效率高的特點,全息光柵光譜范圍廣,雜散光低,且可作到高光譜分辨率。
光柵方程
反射式衍射光柵是在襯底上周期地刻劃很多微細的刻槽,一系列平行刻槽的間隔與波長相當,光柵表面涂上一層高反射率金屬膜。光柵溝槽表面反射的輻射相互作用產生衍射和干涉。對某波長,在大多數方向消失,只在一定的有限方向出現,這些方向確定了衍射級次。
光柵刻槽垂直輻射入射平面,輻射與光柵法線入射角為α,衍射角為β,衍射級次為m,d為刻槽間距,在下述條件下得到干涉的大值:
mλ=d(sinα+sinβ)
定義φ為入射光線與衍射光線夾角的一半,即φ=(α-β)/2;θ為相對與零級光譜位置的光柵角,即θ=(α+β)/2,得到更方便的光柵方程:
mλ=2dcosφsinθ
從該光柵方程可看出:
對一給定方向β,可以有幾個波長與級次m相對應λ滿足光柵方程。比如600nm的一級輻射和300nm的二級輻射、200nm的三級輻射有相同的衍射角。
衍射級次m可正可負。
對相同級次的多波長在不同的β分布開。
含多波長的輻射方向固定,旋轉光柵,改變α,則在α+β不變的方向得到不同的波長。
如何選擇二次元影像測量儀光柵尺
選擇光柵尺主要考慮如下因素:
刻槽密度G=1/D,D是考槽間隔,單位為MM。
閃耀波長
閃耀波長為光柵尺大衍射效率點,因此選擇光柵時應盡量選擇閃耀波長在實際應用在可見光范圍,可選擇閃耀波長為500nm。